CAS NO:2628-16-2 PACS/AST/4-Acetoksistirenas

CAS NO:2628-16-2 PACS/AST/4-Acetoksistirenas

Molekulinė formulė: C10H10O2
Molekulinė masė: 162,19
Naudojimas: 4-acetoksistirenas daugiausia naudojamas puslaidininkių mikroelektronikos KrF fotorezisto, funkcinės polimerinės dervos, jonų mainų adsorbcijos dervos ir farmacinės organinės sintezės pramonėje.
Siųsti užklausą
Aprašymas
Techniniai parametrai

 

Produktų aprašymas

 

 

4-Acetoksistirenas (AST) yra stireno monomeras su acetilo apsaugine grupe. Jis pasižymi geresniu laikymo stabilumu nei 4-hidroksistirenas. Po polimerizacijos jį galima hidrolizuoti ir gauti polihidroksistireną (PHS). Su mažai metalinių priemaišų, tai yra pagrindinė 248 nm KrF fotorezisto bazinės dervos žaliava.

 

 

Gaminių specifikacija

 

Produkto pavadinimas pACS/AST/4-Acetoksistirenas
CAS NR 2628-16-2
PREKĖS NR M212
Išvaizda Bespalvis skaidrus skystis
Grynumas 99%
Tankis 1,06 g/ml 25 laipsnių temperatūroje
Lūžio rodiklis 1.538
Virimo temperatūra 260 laipsnių
Lydymosi temperatūra 7-8 laipsniai
Paketas 100g/1kg/10kg ir kt.
Pristatymas 2-3 dienas
Sandėliavimas 2-8 laipsniai
MSDS/COA/TDS Prijunkite mus

 

Produktų taikymas

 

4-acetoksistirenas (pACS/AST) daugiausia naudojamas puslaidininkių mikroelektronikos, funkcinių polimerinių dervų ir farmacijos organinės sintezės pramonėje KrF fotorezistui.

 

product-3000-1095

 

DUK

 

K: Kokį vaidmenį pACS vaidina KrF fotorezisto gamyboje?

A: Po polimerizacijos ir hidrolizės pACS sudaro PHS bazinę dervą, kuri yra pagrindinė plėvelę formuojanti 248 nm KrF teigiamo fotorezisto derva ir viena iš pagrindinių fotorezisto žaliavų.

Kl .: Kodėl pACS reikalingas 2–8 laipsnių šaldymas?

A: pACS turi vinilo grupių ir yra linkęs savaime polimerizuotis kambario temperatūroje. Šaldymas žemoje temperatūroje kartu su TBC inhibitoriumi gali veiksmingai slopinti polimerizaciją ir užkirsti kelią priešlaikinei acetilo apsauginių grupių hidrolizei.

Kl.: Kokius formulės pranašumus pACS monomeras gali suteikti KrF fotorezistui?

A: pACS pasižymi dideliu grynumu ir mažai metalinių priemaišų. Polimerizuota PHS derva turi siaurą molekulinės masės pasiskirstymą. Gautas KrF fotorezistas užtikrina didelę vaizdo skiriamąją gebą ir mažą linijos briaunų šiurkštumą, tinkamas silicio plokštelių smulkios grandinės gamybai.

K: Kokie scenarijai tinka šviesai jautrioms dangoms, pagamintoms iš pACS?

A: Danga yra atspari karščiui ir gali būti naudojama kaip apsauginė elektroninių komponentų danga, kad atitiktų atsparumo aukštai temperatūrai ir izoliacijos apsaugos reikalavimus.

 

Populiarus Žymos: cas Nr.:2628-16-2 pak./ast/4-acetoksistirenas, Kinija cas Nr.:2628-16-2 pak./ast/4-acetoksistireno gamintojai, tiekėjai