Produktų aprašymas
PEES (pEES) turi rūgštims labilią etoksietoksi apsauginę grupę, kurią galima greitai pašalinti naudojant rūgštinę katalizę. Jis pasižymi geru terminiu stabilumu ir itin mažu metalo priemaišų kiekiu. Jis gali būti polimerizuotas, kad būtų paruoštas polihidroksistirenas (PHS) aukštos raiškos KrF chemiškai sustiprintam fotorezistui.
Gaminių specifikacija
| Produkto pavadinimas | PEES/4-(Etoksietoksi)stirenas |
| CAS NR | 157057-20-0 |
| PREKĖS NR | M120 |
| Išvaizda | Bespalvis skaidrus skystis |
| Grynumas | Didesnis arba lygus 99 % |
| Vandens kiekis | Mažiau arba lygus 0,05 % |
| Metalo jonų priemaišos | Mažiau nei arba lygus 1 ppb |
| Paketas | 100g/1kg/10kg ir kt. |
| Pristatymas | 2-3 dienas |
| Sandėliavimas | kambario temperatūros |
| MSDS/COA/TDS | Prijunkite mus |
Produktų taikymas
PEES (p-(1-etoksietoksi) stirenas) daugiausia naudojamas KrF fotorezisto dervos sintezei puslaidininkių mikroelektronikoje, funkcinėse polimerinėse medžiagose ir pažangioje naujų medžiagų tyrimų ir plėtros pramonėje.
DUK
K: Kokie yra PEES saugojimo reikalavimai?
A: Stabilizuotas TBC inhibitoriumi. Laikyti sandariai uždarytą 2–8 laipsnių temperatūroje nuo šviesos. Atskirkite oro ir šilumos šaltinį, kad išvengtumėte vinilo savaiminės polimerizacijos ir priešlaikinio apsaugos nuo rūgšties pašalinimo.
K: Koks yra PEES monomero principas KrF fotorezistinėje dervos sistemoje?
A: PEES sudėtyje yra rūgštims jautrios etoksietoksi apsaugos grupės. Fotorūgštis, susidaranti po litografijos poveikio, sukelia apsaugą. Derva keičiasi iš šarmuose netirpios į šarmuose tirpią, kad būtų galima sukurti plokštelių raštą.
K: Kokia apsauga reikalinga PEES veikimui pagal SDS?
A: Dirgina akis, odą ir kvėpavimo takus. Darbas turi būti atliekamas dūmų gaubte su apsauginiais akiniais, tirpikliams atspariomis pirštinėmis ir veido skydeliu.
K: Koks yra pagrindinis skirtumas tarp PEES ir pACS / PTBS fotorezistų monomerų?
A: PEES turi etoksietoksi apsauginę grupę su greitu rūgšties pašalinimo greičiu. pACS reikia hidrolizės, kad būtų pašalinta apsauga, PTBS turi tret-butoksi grupę. Jie skirti skirtingam fotorezisto jautrumui.
Kl.: Kas atsitinka su rūgštims labilia PEES monomero apsaugine grupe KrF fotorezisto ekspozicijos metu?
A: Ekspozicijos metu susidaro fotorūgštis. Etoksietoksi apsauginė grupė greitai skyla. Polimeras virsta fenolio hidroksilo struktūra, keičiasi iš šarmuose netirpios į šarmuose tirpią litografinio modelio vystymuisi.
Populiarus Žymos: cas Nr.:157057-20-0 pees/4-(etoksietoksi)stirenas, Kinija cas Nr.:157057-20-0 pees/4-(etoksietoksi)stireno gamintojai, tiekėjai
